В настоящее время наиболее передовые процессоры Intel поколения Broadwell производятся по 14-нанометровой технологии.

Однако с внедрением этой методики у корпорации возникли проблемы, в связи с чем появление Broadwell на рынке задержалось. Похоже, та же участь постигнет и будущие чипы, выполненные по нормам 10 нанометров.

Сама Intel неоднократного говорила о разработке 10-нанометрового техпроцесса, однако о сроках его внедрения умалчивала. В конце января нынешнего года один из руководителей Intel на Ближнем Востоке обмолвился, что первые чипы, выполненные по новой методике, следует ждать в начале 2017-го.

Иными словами, их выпуск планировалось организовать не позднее второй половины 2016 года. Но теперь сетевые источники сообщают, что сроки, скорее всего, будут перенесены.
Дело в том, что Intel, по слухам, планировала начать закупку необходимого оборудования для внедрения 10-нм техпроцесса в прошлом месяце.

Теперь же называется декабрь нынешнего года. Таким образом, массовое производство изделий нового поколения, вероятно, начнётся только в первой половине 2017-го, а на рынке они появятся в лучшем случае в конце того же года.

Нужно заметить, что для изготовления 10-нм чипов Intel переоборудует израильский завод Fab 28, находящийся в Кирьят-Гате. Однако пробный выпуск таких чипов стартует на предприятии D1X в Хиллсборо (Орегон, США). По такой технологии, в частности, будут изготавливаться процессоры с кодовым именем Cannonlake, которые должны стать преемниками Skylake (выйдут в 2015-м). В дальнейшие планы Intel входит внедрение технологий с нормами 7 и 5 нанометров.